看完這篇文章才知道硅片清洗機(jī)的應(yīng)用范圍是如此的廣泛

更新時(shí)間：2021-06-25

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硅片清洗機(jī)可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面，通過分布能量的z大化支持z理想的清洗，同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。

硅片清洗機(jī)應(yīng)用：

帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片

Ge,GaAs以及InP晶圓片清洗

CMP處理后的晶圓片清洗

晶圓框架上的切粒芯片清洗

等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗

帶保護(hù)膜的分劃版清洗

掩模版空白部位或接觸部位清洗

X射線及極紫外掩模版清洗

光學(xué)鏡頭清洗

ITO涂覆的顯示面板清洗

兆聲輔助的剝離工

硅片和藍(lán)寶石片清洗

帶晶圓框架的芯片清洗

FSI清洗

硅片和藍(lán)寶石片清洗

帶晶圓框架的芯片清洗

顯示平板，ITO涂層顯示屏清洗

帶圖案及無圖案掩模版清洗

帶保護(hù)膜分劃板的背面清洗

薄膜結(jié)構(gòu)膠粘劑清洗

光刻膠涂覆/剝離和Piranha去膠

背面多晶去除

顯影和其他刻蝕應(yīng)用

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看完這篇文章才知道硅片清洗機(jī)的應(yīng)用范圍是如此的廣泛