光學(xué)鍍膜設(shè)備是現(xiàn)代光學(xué)和光電系統(tǒng)重要的組成部分，在光通信、光學(xué)顯示、激光加工、激光核聚變等高科技及產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域已經(jīng)成為核心元器件，其技術(shù)突破常常成為現(xiàn)代光學(xué)及光電系統(tǒng)加速發(fā)展的主因。光學(xué)薄膜的技術(shù)性能和可靠性，直接影響到應(yīng)用系統(tǒng)的性能、可靠性及成本。
隨著行業(yè)的不斷發(fā)展，精密光學(xué)系統(tǒng)對光學(xué)鍍膜設(shè)備的光譜控制能力和精度要求越來越高，而消費電子對光學(xué)薄膜器件的需求更強調(diào)超大的量產(chǎn)規(guī)模和普通大眾的易用和舒適性。
光學(xué)鍍膜設(shè)備在過去幾十年實現(xiàn)了長足的進展，從舟蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)及其離子束輔助沉積技術(shù)發(fā)展到離子束濺射和磁控濺射技術(shù)。近年來在這些沉積技術(shù)和裝備領(lǐng)域的主要技術(shù)進展包括：
間歇式直接光控(intermittentmeasuringmethod)
間歇式直接光控(intermittentmeasuringmethod)：以LeyboldOptics公司的OMS5000系統(tǒng)為代表，光學(xué)鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號采集系統(tǒng)，對鍍膜過程產(chǎn)品片實現(xiàn)直接監(jiān)控。相對于間接光控和晶控系統(tǒng)，間歇式直接光控系統(tǒng)有利于降低實際產(chǎn)品上的薄膜厚度分布誤差，可以進一步提高產(chǎn)品良率并減少了工藝調(diào)試時間。
漸變折射率結(jié)構(gòu)薄膜技術(shù)與裝備(RguatefilterandCoater)
漸變折射率結(jié)構(gòu)薄膜技術(shù)與裝備(RguatefilterandCoater):已經(jīng)有大量研究工作已經(jīng)證實Rugate無界面型薄膜結(jié)構(gòu)和準(zhǔn)Rugate多種折射率薄膜結(jié)構(gòu)通過加強調(diào)制折射率在薄膜厚度方向上分布，能設(shè)計出非常復(fù)雜的光譜性能，(部分)消除了薄膜界面特征，(部分)消除界面效應(yīng)，如電磁波在界面上比薄膜內(nèi)部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力學(xué)穩(wěn)定性。
德國CEC公司開發(fā)的靶面掃描共濺系統(tǒng)。通過在離子束濺射鍍膜過程中，精確掃描兩種材料拼接而成的混合濺射靶，可以實現(xiàn)折射率的漸變結(jié)構(gòu)，高精度制備(準(zhǔn))Rugate復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu)的光學(xué)薄膜，獲得比高低折射率薄膜結(jié)構(gòu)更復(fù)雜的光譜性能和更優(yōu)異的附著力、應(yīng)力等物理性能。
磁控濺射光學(xué)鍍膜系統(tǒng)(MagnetronSputtering)
以LeyboldHelios和ShincronRAS為代表，磁控濺射技術(shù)及裝備在精密光學(xué)領(lǐng)域和消費光電子薄膜領(lǐng)域占據(jù)越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程控制簡單，粒子能量高，獲得的薄膜結(jié)構(gòu)致密穩(wěn)定。
展望
我國的光學(xué)和光電子行業(yè)在產(chǎn)能擴充和技術(shù)更替中需要大量的中光學(xué)鍍膜機。而相關(guān)元器件研發(fā)過程中，及時的工藝創(chuàng)新和相應(yīng)的裝備支持也是整個行業(yè)技術(shù)創(chuàng)新的基石和可持續(xù)發(fā)展的基本戰(zhàn)略。
我國已在精密機械、真空技術(shù)、光電子技術(shù)和光機電自動化控制等領(lǐng)域開展了大量的研究工作，獲得了長足的技術(shù)進步，并形成了完善的產(chǎn)業(yè)集群，這些是研制光學(xué)薄膜裝備的重要基礎(chǔ)。
如果光學(xué)鍍膜裝備領(lǐng)域能牽引光機電、真空機械、薄膜工藝等領(lǐng)域的協(xié)同創(chuàng)新，共同研制出屬于我們自己的光學(xué)鍍膜機，將進一步加速我國光學(xué)和光電子行業(yè)的發(fā)展。因此，也建議該領(lǐng)域能得到國家和地方更多的重視與投入。
產(chǎn)品分類
更新時間：2020-09-07 
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