NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕：可以用于光柵刻蝕，SiO2二氧化硅、Si 硅以及金屬等的深槽刻蝕。此外，還可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。系統(tǒng)可以兼容反應(yīng)氣體以及非反應(yīng)氣體，比如Ar，O2，CF4，Cl2等。

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2023-11-13
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產(chǎn)品詳情

RIBE反應(yīng)離子束刻蝕

NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設(shè)計易于維護、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為。

NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕產(chǎn)品特點：

低成本
離子束：高達2KV/10mA
離子電流密度100-360uA/cm2
離子束直徑：4",5",6"
兼容反應(yīng)及非反應(yīng)氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)
極限真空5x10-7Torr
260l/s渦輪分子泵，串接500 l/min干泵
14"不銹鋼或鋁質(zhì)腔體
水冷旋轉(zhuǎn)/傾斜樣品臺(NIE-3500)
自動上下載片（NIE-3500）
基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
占地面積30"x30"

產(chǎn)品應(yīng)用：

表面清洗
表面處理
離子銑
帶活性氣體的離子束刻蝕
光柵刻蝕
SiO2，Si和金屬的深槽刻蝕

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