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隨著NANO-MASTER*技術(shù)的ICP源的深入應(yīng)用，對于大面積的基片提供均勻高品質(zhì)的薄膜生長得以實現(xiàn)。到目前為止，NANO-MASTER的ALD系統(tǒng)可以支持在任意尺寸的襯底上的擴展，這給顯示和照明等領(lǐng)域帶來好消息。此外，NANO-MASTER同時具備粉末處理能力的擴展。這樣，NANO-MASTER系統(tǒng)已經(jīng)可以支持在任意尺寸和任意形狀的固體上進行原子級生長。在應(yīng)用選擇方面，我們支持熱ALD和PEALD系統(tǒng)的單獨應(yīng)用，同時也支持ALE/ALD雙系統(tǒng)、IBE/ALD雙系統(tǒng)、ALD...

微波等離子清洗機產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，微波等離子清洗機發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)，不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。微...

今年7月，北京理工的RIE-PECVD順利安裝驗收。這套設(shè)備是Nano-Master極富特色的雙系統(tǒng)設(shè)備，一套設(shè)備中實現(xiàn)反應(yīng)離子刻蝕工藝，同時具備等離子增強化學(xué)氣相沉積的工藝能力，既避免客戶擔心的交叉污染問題，又為實驗室節(jié)省了寶貴的空間和預(yù)算，是大學(xué)院校和科研機構(gòu)的熱門選擇。NANO-MASTER(那諾-馬斯特)PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2,Si3N4,或DLC薄膜到zui大可達12”直徑的基片上,可以通過不同配置實現(xiàn)高速沉積，或控制氮化物薄膜應(yīng)力，或支持CNT和石...

八月初，深圳先進院磁控濺射NSC-3500安裝條件已具備，NANO-MASTER的工程師們?yōu)樯钲谙冗M院安裝調(diào)試實施。本套NSC-3500是帶機械手臂的全自動控制型號，標準配置帶有水冷或者加熱(zui高可加熱到700度)功能，zui大到6"旋轉(zhuǎn)平臺，zui大可支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7Torr，15分鐘內(nèi)可以達到10-6Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。NSC-3500帶有14"立方形不銹鋼腔...

微波等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在...

如何保養(yǎng)晶圓清洗機？保養(yǎng)晶圓清洗機的方法有哪些？保養(yǎng)晶圓清洗機注意事項有哪些？下面就由小編為大家總結(jié)了一些使用經(jīng)驗，希望能對大家在養(yǎng)護時得到幫助。日常維護：1、沖洗接入清潔劑的軟管和過濾器，去除任何洗滌劑的殘留物以助于防止腐蝕；2、關(guān)斷連接到清洗機上的供水系統(tǒng)；3、扣動伺服噴槍桿上的扳機可以將軟管里全部壓力釋放掉；4、從清洗機上卸下橡膠軟管和高壓軟管；5、切斷火花塞的連接導(dǎo)線以確保發(fā)動機不會啟動(適用于發(fā)動機型)。電動型:將電源開關(guān)轉(zhuǎn)到‘開’和‘關(guān)’的位置四到五次每次1-3秒...

兆聲無損清洗設(shè)備不僅保存了超聲波清洗的優(yōu)點，而且克服了它的不足。兆聲無損清洗設(shè)備理由是由高頻振效應(yīng)并結(jié)合化學(xué)清洗劑的化學(xué)反應(yīng)對硅片進行清洗的。在清洗時，由換能器發(fā)出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動，zui大瞬時速度可達到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細小微粒被強制除去并進入到清洗液中。如何選購兆聲無損清洗設(shè)備，隨著“以養(yǎng)代修”理念的深進推廣，為了進步發(fā)...

微波等離子去膠機操作規(guī)程：1、自動切割小車應(yīng)經(jīng)空車運轉(zhuǎn)，并選定切割速度；2、使用釷、鎢電極應(yīng)符合JGJ33-2001第12.7.8條規(guī)定；3、高頻發(fā)生器應(yīng)設(shè)有屏蔽護罩，用高頻引弧后，應(yīng)立即切斷高頻電路；4、應(yīng)檢查并確認電源、氣源、水源無漏電、漏氣、漏水，接地或接零安全可靠；5、操作人員應(yīng)站在上風處操作?？蓮墓ぷ髋_下部抽風，并宜縮小操作臺上的敞開面積；6、小車、工件應(yīng)放在適當位置，并應(yīng)使工件和切割電路正極接通，切割工作面下應(yīng)設(shè)有溶渣坑；7、微波等離子去膠機應(yīng)根據(jù)工件材質(zhì)、種類和...